| |
| |
| 中國(guó)原子能科學(xué)研究院成功研制國(guó)內(nèi)首個(gè)基于SILEX技術(shù)濃縮硼同位素分離系統(tǒng)樣機(jī) |
| |
近日，原子能院核技術(shù)綜合研究所團(tuán)隊(duì)在激光激發(fā)同位素分離（SILEX）技術(shù)研究中取得重要進(jìn)展。研究成果探明了SILEX濃縮機(jī)理，設(shè)計(jì)并研制出國(guó)內(nèi)首個(gè)基于SILEX技術(shù)濃縮硼同位素分離系統(tǒng)樣機(jī)，為實(shí)現(xiàn)低能耗、高分離效率的硼同位素濃縮技術(shù)發(fā)展提供了重要研究平臺(tái)，有力地促進(jìn)原子能院在同位素分離領(lǐng)域開辟新的技術(shù)渠道，拓展了同位素分離技術(shù)基礎(chǔ)與方向。
硼同位素在高新技術(shù)、核醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域中有重要的應(yīng)用價(jià)值，而同位素濃縮是限制同位素實(shí)現(xiàn)廣泛應(yīng)用的技術(shù)瓶頸。為此，原子能院項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)開展了SILEX濃縮硼同位素系統(tǒng)性研究。SILEX是建立在氣動(dòng)噴嘴法的基礎(chǔ)上，利用激光選擇性激發(fā)目標(biāo)同位素分子并抑制其二聚化，從而增大同位素分子間的質(zhì)量差，提高氣動(dòng)噴嘴法的同位素分離能力。
在原子能院長(zhǎng)期基礎(chǔ)研究專項(xiàng)的支持下，項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)取得了多項(xiàng)研究成果：建立了同位素分子紅外低溫光譜研究新方法，獲得了BCl3（三氯化硼）振轉(zhuǎn)光譜線強(qiáng)度隨溫度變化特性；探明了超聲速流中二聚體形成機(jī)理，并首次從分子層面解釋了激光選擇性激發(fā)提高氣動(dòng)同位素分離能力的物理機(jī)理；掌握了受激分子氣動(dòng)輸運(yùn)計(jì)算方法并建立了氣動(dòng)分離模型；探明了超聲速流場(chǎng)影響因素并獲得幾種理想噴嘴構(gòu)型；研制出SILEX濃縮硼同位素分離系統(tǒng)樣機(jī)。此外，團(tuán)隊(duì)還發(fā)明了激光輔助氣動(dòng)離心同位素分離方法及氣動(dòng)同位素分離在線檢測(cè)技術(shù)等，相關(guān)技術(shù)獲得發(fā)明專利授權(quán)。
?
特別聲明：本文轉(zhuǎn)載僅僅是出于傳播信息的需要，并不意味著代表本網(wǎng)站觀點(diǎn)或證實(shí)其內(nèi)容的真實(shí)性；如其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)站轉(zhuǎn)載使用，須保留本網(wǎng)站注明的“來源”，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任；作者如果不希望被轉(zhuǎn)載或者聯(lián)系轉(zhuǎn)載稿費(fèi)等事宜，請(qǐng)與我們接洽。
<script src="/html/js/share.js" type="text/javascript"></script>
(資料圖)
